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美IT工程師死亡被指與華為有關 FBI介入調查
發布時間:2013-03-04 | 點擊次數:1308
  

華為公司在某展覽會上的展臺
華為公司在某展覽會上的展臺

  31歲的美國IT工程師托德2012年6月在新加坡死亡案近日突然成為媒體的關注焦點。據美國有線電視新聞網(CNN)3日報道,托德生前供職于新加坡微電子研究院,辭職后一個月被發現在公寓內死亡,新加坡警方認為托德是自殺。但其家人堅稱托德死于他殺。3月1日,新加坡警方要求美國FBI介入調查該案。

  CNN稱,托德的死亡已經成為一樁國際爭議案件,新加坡當地警察、美國國務院、聯邦調查局都卷入其中。據報道,托德擁有電子工程學博士學位,在新加坡從事最新式手機和雷達科技的相關工作。去年5月初,看似前途光明的托德從新加坡微電子研究院辭職。6月底,托德被發現在公寓死亡。現場有自殺裝置,新加坡警方認為托德是自縊身亡。但他的父母認為,這一調查結果過于荒謬,因為托德所謂的“自殺遺書”中所提到的家庭事件純屬子虛烏有。其家人稱,托德本人對在新加坡的工作十分厭惡,但其“遺書”中對公司表達了感謝,令人起疑。他們聘請了美國法醫,后者得出的結論是:托德死于他殺。

  CNN稱,最受關注的是托德父母所稱的“硬盤”。托德的父母說,該硬盤被人動過手腳,包含有新加坡微電子研究院和中國華為公司提出的利用氮化鎵技術開發更強大放大器的建議。報道引述其家人的話說,“托德曾懷疑自己的工作是否違法,或者可能給美國國家安全帶來危害”。對此,法新社3日引述中國華為公司發言人的話澄清說,同新加坡方面有過接觸,但沒有商業關系,更未在氮化鎵項目上有任何合作。

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